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    1. 材料光學測量設備
      R&D ! QC ! 植入設備! 都可簡單實現高精度測量!測量目標膜的絕對反射率,實現高精度膜厚和光學常數測試! (分光干渉法)特 長 Features· 膜厚測量中必要的功能集中于頭部·通過顯微分光高精度測量絕對反射率...
      量子效率測定系統QE-2000產品介紹測得量子效率(量子產額)后 — — 就可以進行熒光體的性能評價量子效率測量系統“QE-2000”是一種測量量子效率(量子產額)的裝置。將試料放置在固定治具上之后, 按照專業軟件的指示...
      對于具有波長依賴性的多層膜,可以實現高精度測量!膜厚量測儀FE-3的特點使用分光干涉法原理配置高精度FFT膜厚分析引擎(專利 第4834847號)可通過光纖靈活構筑測量系統可嵌入各種制造設備可實時測量膜厚支持遠程遙控,多...
      小型?低價格!簡單操作”非接觸”膜厚量測儀FE-300!膜厚量測儀FE-300的特點測試范圍涵蓋薄膜到厚膜基于絕對反射率光譜分析膜厚小型?低價,精度高無復雜設定,操作簡單,短時間內即可上手外觀新穎,操作性提高非線性*小二...
      可完美對應所有基板上多層膜測量的光干涉膜厚儀。實績很多。高精度,高感度從薄膜到厚膜的廣范圍多層膜分析反射式膜厚量測儀的產品特點完美對應紫外到近紅外(190~1600nm)廣波長范圍。利用高分辨率傳感器,可對應厚膜以及超厚...
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